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OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 双电极系统
MVS 1000
描述
MVS 1000 火花发射光谱仪可以对所有常见金属材料进行多功能、灵活和快速的材料分析。MVS 1000 以极具吸引力的成本使用最现代的检测器技术。
分析能力包括短波元素的精确分析，如钢或铸铁中的碳、磷、硫和铝中的磷。
主要特征
完整而灵活地覆盖所有常见的分析任务
简单的扩展选项
最新、专门开发的探测器技术
在检出限、精密度、稳定性方面表现良好
坚固的结构，适用于恶劣环境
最广泛的多矩阵应用
紧凑型光谱仪
技术参数
Paschen-Runge 设置中的光谱仪
罗兰圆直径 500 毫米
光学和读出系统温度稳定在 35 °C ± 0.1 °C，以获得最佳的长期稳定性
计算机控制的自动分析
针对波长范围优化的传感器线
没有传感器线路涂层的高紫外线灵敏度
轻金属真空室
免维护旋片泵
真空泵集成在外壳中
防止油回火和油扩散
采用 Stromtor 技术的门控数字源 (GDS)
免维护
射频高达 1 kHz
单极中压放电
预点火和积分参数可以单独参数化
射频和放电特性可自由参数化
点火电压 20kV
230V；50/60赫兹；1.5kVA
待机模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成员，是适用于所有标准应用的单矩阵火花发射光谱仪。由于其紧凑坚固的结构以及简单的操作，它非常适用于铸造厂等生产环境，
也适用于进货和材料控制。为了保证不受光谱仪周围外部条件的影响，检测器（光电倍增管）和集成系统安装在温度稳定的真空光学器件中。分析能力涵盖短波元素的精确分析，如钢或铸铁中的碳、磷、硫和氮以及铝中的磷。
主要特征
紧凑型光谱仪
GDS III 建议
真空光学
自清洁火花架
可选配“mini-GISS”
可选双电极系统
技术参数
Paschen-Runge 安装中的光谱仪
罗兰圆直径 500 毫米
波长范围 140-770 nm
光学元件和读出电子元件的温度稳定在 ± 0.1°C，具有出色的长期稳定性
自动计算机控制的轮廓
昏迷矫正狭缝
根据各自波长选择 PMT 类型
抗震性
带集成多火花系统的门控数字源 (GDS)
免维护
火花频率高达 1 kHz
单极中压放电
预点火和积分可选的单独参数
可由软件选择的可变励磁参数和放电特性
点火电压 20kV
宽 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量约300公斤
电源供应
230V；50/60赫兹；1,5 kVA
待机模式下 200 W
环境条件
工作温度 10 – 40 ºC
OBLF VeOS
描述
OBLF 的 VeOS 火花发射光谱仪采用基于为发射光谱专门开发的半导体探测器的尖端探测器技术，能够对所有常见金属材料进行多功能、灵活和快速的分析。分析光谱还包括对短波长元素（如氮或低碳）的精确分析。
主要特征
完整而灵活地包含所有分析任务
易于扩展的功能
最新、专门开发的探测器技术
在检出限、精密度、稳定性方面表现出色
用于重型环境的坚固设计
最全面的多矩阵应用选项，对分析元素的选择没有任何限制
准确检测 N 和痕量碳 (ULC)
技术参数
Paschen-Runge 安装中的光谱仪
罗兰圆直径 500 毫米
波长范围 130-700 nm
光学元件和读出电子元件的温度稳定在 ± 0.1°C，具有出色的长期稳定性
冷却光学元件和读出系统
自动计算机控制的轮廓
每个波长区域的优化检测器线
没有传感器涂层的高紫外线灵敏度
抗震性
带集成多火花系统的门控数字源 (GDS)
免维护
火花频率高达 1 kHz
单极中压放电
预点火和积分可选的单独参数
可由软件选择的可变励磁参数和放电特性
点火电压 20kV
宽 74 厘米
身高 134 厘米
深度 115 厘米
重量约300公斤
电源供应
230V；50/60赫兹；1,5 kVA
待机模式下 300 W
环境条件
工作温度 10 – 40 ºC
QSN 750-II
我们的 QSN 750-II 型号是一款火花发射光谱仪，由于其 750 mm真空光学元件，可用作单矩阵或多矩阵系统。这导致了广泛的应用领域，不仅涵盖了整个金属生产和加工企业，而且还包括材料测试人员和测试机构的广泛选择。
集成系统和光电倍增管均按照客户要求进行布置，均安装在光学器件内部，因此可免受外部影响。温度稳定的光学元件和门控数字源 (GDS)技术保证了高度的信号再现性和分析稳定性。
易于触及的自清洁和专利火花支架和孔窗使用户能够进行无故障维护。排气过滤器可确保清除消耗的氩气。
主要特征
多矩阵应用
多达 64 个 PMT 单元通道
GDS III 火花发生器
真空系统
自清洁火花架
适用于自动化系统
双电极系统作为选项
自动电极清洁作为选项
技术参数
Paschen-Runge 安装中的光谱仪
罗兰圆直径 750 毫米
波长范围 110-770 nm
光学元件和读出电子元件的温度稳定在 ± 0.1°C，具有出色的长期稳定性
自动计算机控制的轮廓
昏迷矫正狭缝
根据各自波长选择 PMT 类型
抗震性
带集成多火花系统的门控数字源 (GDS)
免维护
火花频率高达 1 kHz
单极中压放电
预点火和积分可选的单独参数
可由软件选择的可变励磁参数和放电特性
点火电压 20kV
稳定的 PMT 高压电源
每个通道动态 16 位 AD 转换
DSP 处理器控制
USB 接口至光谱仪 PC
尺寸和重量
宽 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 约 460 公斤
电源供应
230V；50/60赫兹；1,5 kVA
待机模式下 500 W
环境条件
工作温度 10 – 40 ºC
QSG 750-II
描述
我们的QSG 750-II火花发射光谱仪也堪称OBLF的旗舰机型。这种单基质或多基质模型非常适合要求尽可能低的检测限、最高程度的重现性和有关分析物的额外冶金信息的所有应用。
应用范围从钢铁厂或其他冶炼厂等初级生产商到金属加工公司，再到研究机构和大学。
QSG 750-II 与QSN 750-II型号相当。主要区别在于数据记录系统，它基于OBLF 开发的GISS技术（单火花门控集成）。在尺寸相同的情况下，它还配备了久经考验的硬件组件，
如温度稳定的 750 毫米真空光学器件、具有可自由定义参数的门控数字源 (GDS)技术和获得专利的自清洁火花支架。排气过滤器可确保清除消耗的氩气。所有关键设备部件都易于访问，简化了需要用户执行的服务任务。
主要特征
多矩阵应用
多达 64 个 PMT 单元通道
GDS III 火花发生器
真空系统
自清洁火花架
适用于自动化系统
门控集成 (GISS)
包含分析（GISS）
可选 ULB 双电极系统
自动电极清洁作为选项
技术参数
Paschen-Runge 安装中的光谱仪
罗兰圆直径 750 毫米
波长范围 110-770 nm
光学元件和读出电子元件的温度稳定在 ± 0.1°C，具有出色的长期稳定性
自动计算机控制的轮廓
昏迷矫正狭缝
根据各自波长选择 PMT 类型
抗震性
抽真空的轻金属室
免维护 2 级旋片泵
真空泵集成在机柜中
泵占空比 <5%
油扩散保护
自动压力调节和稳定
带集成多火花系统的门控数字源 (GDS)
免维护
火花频率高达 1 kHz
单极中压放电
预点火和积分可选的单独参数
可由软件选择的可变励磁参数和放电特性
点火电压 20kV
开放式样品台，便于操作
低磨损顶板，开口 12 毫米
可选择用于小零件和电线的适配器
低磨损钨电极
用于快速样品处理的气动样品夹
自动电极清洁作为选项
每次测量大约消耗 3 升氩气
易于维护
稳定的 PMT 高压电源
每个通道 23 位 AD 转换
GISS 技术（单火花门控集成）
DSP 处理器控制
USB 接口至光谱仪 PC
尺寸和重量
宽 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 约 460 公斤
电源供应
230V；50/60赫兹；1,5 kVA
待机模式下 500 W
环境条件
工作温度 10 – 40 º